公开号：	US2006114476A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	测量
专利名：	带有干涉仪的曝光设备
摘要：	投影曝光装置包括一个曝光光源，一个照明系统，从曝光光源发出的光线经过照明系统，用于照亮从第一物体形成的图案，一个光学投影系统用来投影出所需图案，从第一物体上的光照到第二物体上曝光形成相同图案，一个干涉仪用来测量光学投影系统的光学特性，干涉仪是使用曝光光源的光线来实现测量。