公开号：	US2006122085A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	高效清洁半导体片的成分和方法
摘要：	一个包括超临界流体和至少一个选自氟类的添加剂的合成物，包括一级和/或二级胺，与共溶剂、低K物质攻击抑制剂（s）和/或表面活性剂（s）。此合成物对清洗半导体片出去灰化的残渣有特殊的作用。