公开号：	US2006183654A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	使用离子液体清洁半导体材料
摘要：	清洁基板的方法包括将半导体基板的表面与含有离子液体的成分相接触。半导体基板可能是一个晶圆。