公开号：	US2006186373A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	用于化学机械抛光的抛光介质和抛光方法
摘要：	本发明提供了一种用于CMP的抛光介质，包括氧化剂、金属氧化物溶解剂、保护膜形成剂、水溶性聚合物和水，和使用这种抛光介质的抛光方法。另外，最好是水溶性聚合物的平均分子量为500或以上，抛光介质的动摩擦系数为0.25或以上，Ubbelode的粘度从0.95mPa.s（0.95CP）到1.5mPa.s（1.5CP），且拐点压力为5千帕（50gf/厘米<SUP>2</SUP>