公开号：	US2006205623A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	光致抗蚀剂剥离液组合物以及光致抗蚀剂的剥离方法
摘要：	本发明提供光致抗蚀剂剥离液组合物、以及光致抗蚀剂和光致抗蚀剂变质层的剥离方法，其在半导体电路元件的制造工序中，对干蚀刻后残留的光致抗蚀剂以及光致抗蚀剂变质层等具有优良的剥离性；且不会对新型的布线材料和层间绝缘膜材料产生浸蚀。本发明所使用的光致抗蚀剂剥离液组合物含有：炔醇化合物和有机磺酸化合物之中的至少1种、以及多元醇及其衍生物之中的至少一种。