公开号：	US2006199749A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	去除抵制，蚀刻残留，和具有铜和低K介质材料的衬底上的铜氧化物的方法
摘要：	描述了成分的多样性即专门应用到除或多或少的抗蚀剂、蚀刻残留、平面抛光残留和和具有铜和低K介质材料的衬底上的铜氧化物。从一个包括蚀刻铜和低K介质材料介绍基板残留物，平坦化渣，氧化铜适用品种。通过将此成分与沉底表面相接触来除去抗蚀剂，残留，和氧化铜。通常需要接触30秒至30分钟，并在温度为25°?45°C的条件下。此组成包括一个氟提供的组成部分、水的重量至少有1％的易混有机溶剂、有机酸和重量至少是81％的水。通常此成分还包括高达约0.4％的一个或多个螯合剂。