公开号：	US2006207635A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	阻挡层抛光流体
摘要：	该抛光流体适用于抛光半导体衬底的含钽阻挡层材料。该抛光流体包含具有至少两个氮原子的含氮化合物并且该含氮化合物包括亚胺化合物和肼化合物。该含氮化合物不含吸电子取代基；而且该抛光流体能够从半导体衬底的表面除去含钽的阻挡层材料而无需研磨剂。