公开号：	US2006247142A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	一个半导体基片的成分及处理方法
摘要：	本发明涉及一种用于清洗半导体表面的方法，实现对所有种类的污染（微粒，金属和有机物）的一步清理。该方法采用一种稳定的清洗剂并且处理半导体表面时。在很少或几乎不生成金属沉淀。