公开号：	US2007161529A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	用于清洁半导体设备制造装置的清洁组合物及其清洁方法
摘要：	本发明提到一种用于清洁半导体设备制造装置的组合物，此组合物是由1%-50%重量含有至少一个磷酸组中的磷酸成分和一个磷酸盐；0.5%-35%重量的过氧化氢；0-5%重量的氢氟酸和水组成。其中（H<SUB>2</SUB>O<SUB>2</SUB>/F）过氧化氢与在氟化合物和氢氟酸总量中氟的重量比至少为4.用于清洁半导体设备制造装置的组合物至少有一个沉积的金属成分，这种金属成分源于金属钛、钛氧化物、氮化钛、金属铜、氧化铜、金属钽，钽氧化物和氮化钽，最后利用这种组合物能去除沉积的金属成分。