公开号：	US2007191243A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	使用化学水溶液清除硅石基蚀刻残余物
摘要：	本发明公开了使用化学水溶液清除硅石基蚀刻残余物，这种化学水溶液在与电子元件组装加工时能消除危险的担忧。系统使用一种按配方制造的产品渗透和漂洗蚀刻残余物，这种产品是由含有双表面活性剂的柠檬酸缓冲盐中的可控氟离子组成。最终证实这个系统是溶解和清除硅石基蚀刻残余物的理想方法试剂。另外，在特殊的缓冲液pH值和正常的过程中，硅石基残余物清楚速度在45秒到3分钟之间，若是仅在水中发生，这个过程仅为45秒或者更少。所述产品方便，并且减少耗费时间和材料。