公开号：	US2007203041A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	清除杂质的清洁组合物及其清除杂质的方法
摘要：	本发明涉及一种用来清除基体和形成集成电路设备的残余杂质的清洁组合物，还涉及使用这种清洁组合物去除杂质的方法。所述的清洁组合物包括4%-50%重量的至少两种源于柠檬酸组的化合物，一种柠檬酸盐，一种氟化盐，氢氟酸，过氧化氢，过硫酸铵和水。所述清洁组合物可以有效的去除基体和设备的杂质，还可以防止基体和设备发生被杂质的再次污染。