公开号：	US2007232511A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	用于后CMP清洗工艺的含有防腐剂化合物的清洗溶液
摘要：	本发明提供了后CMP清洗溶液，其包含至少一种含有有机酸化合物的清洗剂、至少一种能充分最小化或防止清洗溶液中微生物生长的防腐剂化合物和至少一种胺化合物。防腐剂化合物可以是另一种能保护清洗溶液中避免微生物生长的有机酸化合物。清洗溶液的pH优选是约2-7。