公开号：	US7422019B2
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	半导体培养基的成分及处理它的方法。
摘要：	本发明涉及一种通过一个清洁步骤就能将半导体表面的所有污染物（金属和有机的粒子）都清洁干净的方法。该方法使用一种清洁溶液来处理半导体表面，该溶液在半导体表面非常稳定并且很少或根本不产生金属沉降。12.158