公开号：	WO2006081406A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	洗涤剂
专利名：	对待衬底的固定成分
摘要：	混合物对于制造微电子设备非常有用，这些设备用于表面制备和/或清洁例如微电子先驱结构设备的水培养基。混合物在生产晶片过程中被采用，这些晶片被用于进一步的生产包括铜金属化，例如操作中的表面处理，镀前清洗，刻蚀后清洗和微电子晶片设备的化学机械后抛光等。混合物包括，（1），链烷醇胺，（2），季胺碱，（3），络合剂。它能够稳定储存，即使暴露到氧气中也不会变黑和退化。