公开号：	US2006147981A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	微生物装置
专利名：	通过基质旋转进行阵列制备的方法
摘要：	本方法在晶片上制备了聚合物阵列，在该方法的合成步骤之间，通过旋转晶片达到了在整个晶片上制备更为均匀的阵列的目的。