| 摘要： | 本发明公开了一种用绝对法和比较法原位校准真空计的方法和仪器，能够通过运送和转移不同体积的气体到真空室中，用静态标准测量真空室的压力来进行绝对校准，并和通过在真空计中控制气体从孔口的流动用真空计标准标度来进行的比较法校准进行比较。本发明包含了用静态方法进行的标准真空计的绝对校准和控制孔口气体流动的比较校准的技术，本技术是为了校准从低真空到高真空的合格压力值，同时包括稳定孔口气体流量的真空计比较校准技术。所以，真空计的绝对校准和比较校准通常都是用不同的仪器分别进行的，但现在能够通过一个仪器进行，这样就使真空计的校准经济效益性和便利性最大化。 |