| 摘要： | 改进在基底上溅射薄膜的溅射室。一个溅射室必须有一个碎裂防护体，这些防护体分布在溅射室的内侧与上侧以及溅射靶的里侧，能够维持溅射材料，不然会掉落在要沉积的材料之上。另外一个溅射室包括一个有磁性的靶，能够在里面调整使其相对或垂直。向内旋转的磁体能够使腔体的底部中心沉积较多材料，而在腔体的边侧沉积较少的材料。另外一个溅射室的第三个靶被置于下面两个靶的中间偏上，这是为了保护里层的溅射室不受溅射至第一个靶与第二个靶上的材料的影响。一些溅射室的三个靶形成一个三角形，比如等腰三角形或等边三角形。在一个具有三边连接的靶的腔体中，第一个靶和第二个靶形成了等腰三角形的基础，他们的磁性线方向彼此相对或垂直。上述溅射室既能减少沉积在腔体内部的溅射材料的量，又能帮助保持住溅射材料的量，防止溅落至覆盖的基材上。 |