公开号：	US2006162862A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	俘获在半导体装置制作产生的副产品的仪器
摘要：	在产品可以被形成在或流向一个半导体器件的制造设备的真空泵之前的一个俘获副产品的仪器。仪器连接在处理室和真空泵之间，包括第一个和第二个交替的冷却板，在中空的圆柱形的框架内倾斜。每个最初的冷却板都有一个基底和从基底表面突出的格子，延伸穿过基底的中心部分被定义为排风口。每个第二个冷却板有一个基底和从基底表面突出的格子，延伸穿过基底外部被定义为备用的排风口。从处理室中出来的气体产物穿过机架转变为粉末粘结在冷却板上。