公开号：	US2006185591A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	高温下化学气相沉积的设备
摘要：	提供100托的真空度，至少在700度的操作下，在基底上沉积一层或是多层或者是在反应室中独立形成层的方法和设备的具体化。具有供给系统和注射手段的设备被提供用于多数的气体或者是混合气体的微预反应或者是预处理，制作大多数气相种类的分布，生产一个沿着基底的表面在厚度和化学组成上都充分均一的沉淀物。一个具体的方面是设备包括一个帮助在基底的表面达到厚度和化学组成都均一的牺牲的基底。通过模仿一个沉积的连续的表面从而阻止了在活动模上的任何干扰尤其是基底边缘的干扰。