公开号：	US2006201618A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	薄膜溅射固定基底的设备和方法
摘要：	为薄膜溅射准备了一个固定的基底的装置，它包括一个模具，一个模具压板，一个磁体，一个传动装置。具有形状的模具被安置的基地的下面使得基底形成一定的模型，模具压板被安置在基底的下面，在预先设定的压力下，相对于基底移动，接触基底表面的背面。磁体被放在模具压板的上面，它相对于模具压板移动，以便通过磁体的磁力使模具紧紧的粘结在基底上。传动装置适用于动力移动磁体。模具压板下降的地方，模具压板与基底紧紧联结。其后，磁体相对于基底的表面的背面下降时，由模具压板支撑这，模具下的基地紧紧粘结基底的表面的前面通过磁体的磁力。既然基底是多级支撑的，那么模具下的基底就不会混乱。