公开号：	US2006222772A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	生产薄膜镀层的方法和仪器
摘要：	本发明提供了一种生产镀层的方法。这种方法包括提供的一个基底材料和镀层材料适用于在基底材料上形成一种镀层的镀层沉积的过程。在其中镀层中包括一种类似菱形的碳的镀层。此方法进一步包括在镀层沉积过程中控制等离子体α-H的发射强度，调节至少一个工艺参数去促进类似菱形碳的镀层的生成。