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企业难题需求
公开号: US2006236934A1
大类:国外
行业类型:化学
行业内分类:对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名:通过气体分散装置来控制等离子状态
摘要:能够实现在处理腔中进行气体分散的具体化装置已研发成功。气体分散板包括一个能够向上和一个向下的分散板,在上下板材之间有大量的气体传输装置。气体传输装置在向下的气流中有一个中空阴极腔来增加等离子离子化。向下气流的气体分散装置的中空阴极腔的深度、直径、表面积与浓度可以从分散板的中心至边缘逐步增加,以此来改进膜的厚度,保持性质的一致。通过弯曲向下分散板可以增加从中心代分散板边缘的直径、厚度和表面积,也会造成向下一侧的凸起。通过热处理或真空处理方式来控制分散板的弯曲度。从中心到分散板的边缘的直径、厚度和表面积的增加可以利用计算机数字模拟系统来控制。从中心到分散板边缘的中空阴极腔的不断增大的直径、厚度与表面积已经可以展现出可以带来膜厚度及性质的一致性。
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