公开号：	US2006236941A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	中性的晶片维持晶片自由粒子的加速
摘要：	目前的发明提供了一种仪器以及一种在减少粒子污染、热压及不断增大的速度方面提供了一种控制及转移基体的方法。目前所取得的进展为发明了一种控制基体的一种仪器。这种仪器包括一个支撑板，至少一个突出垫来突出支撑垫的上表面。此垫被设定为支撑基体的后面，因此基体的后面与支撑板的上表面有一定的距离。垫的热阻性能必须与基体与上表面之间的介质的热阻性能完全一致。