公开号：	US2006237849A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	电子装置和溅射靶材相同的制造方法
摘要：	在电子设备中包含第一个金属氧化物电极第二个合金的铝薄膜组成的电极直接接触并且通过电气连接到第一个电极上，建立铝合金薄膜和第一个电极间的接触层，以便至少有一部分铝合金薄膜存在构成组件，作为一个沉淀或浓缩层。这种结构使薄膜之间的铝合金和金属氧化物组成的电极直接接触，并允许消除在这些电子设备中的金属屏障，为此能够被制造。