公开号：	US2006251917A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	磁电管喷射沉积的方法
摘要：	一个用于沉积一纳米层的铬或铜铬混合物到工件上的方法。工件可包括如火箭或喷气发动机燃烧室内衬的挖空结构。该方法包括提供磁控溅射靶和包括铬铜，铬复合材料的外部材料及影响磁控管溅射均匀的沉积指定的溅射靶材在指定的工件上形成纳米涂层。该方法可包括等离子体增强，其中一个是用于生产长丝的等离子体效应的过程中对工件的磁电管喷射沉积的过程。本发明还包括纳米涂层的这些方法和工件材料的沉积涂层包括氧，硅，和/或氮。