公开号：	US2006252275A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	提高绝缘材料沉积的气体传递装置
摘要：	一个气体传输装置半导体设备制造在反应室时材料沉积执行过程中是有用的，包括本发明的气体输送设备和一个进行物质沉积过程的方法，包括用本发明的气体传输装置将齐齐引入到反应室里。在每一个实例中，本发明的气体传输装置包括一个多元化的活性扩散体和气体输送喷嘴，进入反应室扩大多元化。在通过多元化管道进入反应室前，处里气必须首先进入一个多元化的活性扩散体。每一个活性扩散体被准确的控制，以便处理气在每一个活性扩散体上的比率在一个给定的沉积过程的所有时间内被准确的控制。