公开号：	US2006263522A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	用喷头进行化学气相沉积（CVD）仪器和方法
摘要：	其中披露的一种化学气相沉积法（CVD）的方法是通过一个气源材料，包括至少一种活性气体和吹扫气体被注入了一底物上用以在基板上沉积一层膜，包括步骤如下：用这样的方式处理喷头：喷头的底部表面处在与基板相距预设距离的位置上，供应材料气进入喷中，其中不同类型的反应气被分别注入到喷头里的隔间中清扫气体被注入到喷头内的另外隔间中。通过许多的反应气排放口和清扫气排放口排放大量的反应气和清扫气在喷头的底部表面，清扫气出排放口的数量比反应气排放口的数量多。