公开号：	US2006266289A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	形成一个薄膜的反应系统
摘要：	一个原子沉积（ALD）薄膜沉积装置包括一个在晶片薄膜上指定空间内安装的沉积室。沉积室由一个与空间联通的进气口。安装了一个气体系统用以传递气体到沉积室的进气口。至少有一部分的气体系统处在沉积室上方。气系统包括一个将多元化气体混合的混频器。在气流里有一个连接混频器和气体入口的转移装置。传输装置包括一对水平扩散墙用来使气体进入气体入口之前在水平方向上扩散。