公开号：	US2006289296A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	等离子体工艺方法和高速率等离子体刻蚀设备
摘要：	等离子体工艺方法为具有底座和顶篷处理室的等离子体工艺装置进行等离子体加工提供了一种方法，在底座和顶篷处理室之间有一个等离子体加工场，这个加工场的建立需要在底座安装一个靶材，并且设定底座和顶篷间距在25mm和65mm之间（不包括25mm和65mm），通过加工场产生的等离子体对目标靶材进行等离子体处理。我们的目标靶材具有孔的式样，并且要求部分孔的尺寸至少大于或等于500mum。