公开号：	US2006292028A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	从高纯度镍钨合金薄膜形成高纯度镍钨靶体以及形成高纯度镍钨合金的过程
摘要：	高纯度镍钨合金，高纯度镍钨合金靶和高纯度镍钨合金薄膜，其纯度除去镍，钨，气体成分，质量分数可以达到99.9%或者更高。钨组分在锭中，靶中，薄膜中的质量变化不超过0.4%。由于使用高纯度镍钨合金，高纯度的镍钨靶和镍钨薄膜，质量分数高于99.9%，变量非常小，具有改良的蚀刻性能；同位素元素，如铀和钍发射出阿尔法粒子在半导体器件的微电路具有不利作用，在合金使用后大幅降低。更进一步的提供了这种高纯度镍钨合金制造方法，可以有效率的降低了前文提到的杂质含量。