公开号：	US2007014932A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	化学气相沉积设备和使用方法
摘要：	沉积法包含一个处理装置内的基板感应器，感应器通过一个横穿感应器的销钉来抬高基板。通过向电极充电为基板提供均一的电场。电由地面电源供应，延伸和附加于整个中间销的轴向长度。通过化学气相沉积在基板上形成一个薄膜。