| 摘要： | 提供的方法是一种涂覆膜的方法。该方法是进行一个薄膜沉积装置,包括一个有晶圆块位于室热的反应室,预设的温度覆盖室盖密封淋浴头腔,前盖和耦合下有第一次注射洞,第二个注孔内,通过其第一反应气体并注入气体是第二个反应晶圆片,具有反应天然气管输供单位提供第一和第二反应气体排放到反应室,瓦斯加热路径单位安装在第二输送线在第一和第工艺输送线连接反应室和反应天然气管输供单位将气体加热通过本身,以及该方法包括:装货的操作晶圆片块;存放着薄膜的第一反应注入气体与第二个反应气体,具有优异的耐热性活性在晶片通过第一和第二注入洞;流热处理气体包括H元素到薄膜减少杂质包括在薄膜,晶圆片和卸载,薄膜沉积,从晶圆块。如果第二个反应温度气体T1以前,在通过瓦斯加热路径单位温度T经过经过路径燃气采暖单位,T2比1高,如果不热处理温度煤气的T1以前,在通过瓦斯加热路径单位温度T-3经过路径燃气采暖、T3与T1或相同或更高。 |