公开号：	US2007026148A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	气相沉积装置气相沉积方法
摘要：	一个气相沉积的设备包括一个密闭空间,支持图表,是在室和支持基质室,第一通道提供了一种气体形成一层薄膜并联系到室内,第二通道排放气体和连接到室、支持表提供多个部分的第一投射约束实质性的水平运动作为基材表面同一方向对基材、底物支撑的表面接触到背部面对板上。