公开号：	US2007029188A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	矩形过滤蒸汽等离子体源及其控制蒸气等离子体流的方法
摘要：	本发明提供了一个具有控制磁场源的电弧镀膜设备。它包含操纵导体（62,64,66,68），在目标物的后面沿着矩形目标的短边(32c,32d)布置；还包含一个磁聚焦系统，在目标物的前面沿着目标（32）的长边（32a,32b）布置，这就限制了磁场中在目标（32）的对面的长边（32a,32b）上形成的等离子流。等离子体聚焦系统能够用于使等离子流偏离阴极的工作轴。每个操纵导体（62,64,66,68）都可以独立控制。在进一步地实施方案中，独立的电动操纵导体（62,64,66,68）沿着阴极板的对立长边（32a,32b）布置，通过选择性地改变流经一个导体的电流，弧点的路径将转移至加宽腐蚀通道。本发明还提供了一个多元的内部阳极，以及用于选择性偏转等离子流的环境阳极。