公开号：	US2007029194A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	电容耦合等离子体处理装置和方法
摘要：	等离子体处理装置包括一个处理容器，用于容纳目标基底和耗尽真空。第一电极和第二电极彼此相对地排在处理容器中。此装置配备了一个辅助气体供应单元用来向处理容器提供辅助气体。射频电源供给配置向第一电极或第二电极提供射频电力来形成辅助气体的等离子体。直流电源供给配置向第一电极或第二电极提供直流电压。此装置还配备了一个控制部分来调节射频电源和直流电源的供给，这样当射频电源开始提供射频电力时或之后，直流电源提供直流电压达到一个电压设定值。