公开号：	US2007037071A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	光刻掩模缺陷材料的消除方法
摘要：	本发明是关于一种在具有透射载体材料和吸收材料的光刻掩模透射区域消除缺陷材料的方法。第一步是在加工区域消除缺陷材料和吸收材料。第二步是在外部区域铺上吸收材料，而外部区域取决于先前覆盖有吸收材料的加工区域上的部分区域。