公开号：	US2007054049A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	在衬底上生成薄膜的方法
摘要：	本发明提供一种在放置于反应室内的衬底上生成薄膜的方法，它根据ALD方法使衬底发生交替连续的表面反应。该方法包括提供第一反应物源和一种惰性气体源。第一个反应物通过第一渠道向反应室以反复交替脉冲的形式从第一反应物源获得。而且第一反应物能够与反应室内衬底的表面反应。惰性气体从惰性气体源获得并通过第二渠道进入第一渠道，第二渠道是在第一连接点与第一渠道相连，这样就在第一反应物的反复交替脉冲间形成气相障碍进入反应室。惰性气体通过在第二连接点与第一渠道相连的第三渠道从上述第一渠道排出。