公开号：	US2007054050A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	光阻涂布装置和方法
摘要：	光阻涂布装置和方法是用来解决光阻涂布中发生的边胶问题。边胶的产生通过在晶片上离子化溶剂蒸汽形成溶剂蒸汽层得到阻止，该方法使用了磁场发生器，向晶片喷涂液体光阻剂，并且控制液体光阻剂在晶片边缘汽化的不比在晶片中心汽化的多。光阻涂布装置包括：一个溶剂离子发生器，用来供应离子化的溶剂蒸汽；一个磁场发生器，用来在晶片上从离子化的溶剂蒸汽形成溶剂蒸汽层。