公开号：	US2007054063A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	气相沉积系统
摘要：	用于控制气相沉积系统中电子束偏转的设置包括一个控制单元，它是指定的能够根据各自的选择功能驱动起来偏转模块（23,27）。通过驱动这些偏转模块，电子束可以在两个坐标方向上偏转。至少一项选择功能是具有一个时间变化周期，由此电子束的偏转频率随着坐标方向而改变。这个周期值可以手动或自动地提前给出。本发明还涉及一种用于控制气相沉积系统中的电子束偏转的方法。