公开号：	US2007056160A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	磁头的制造方法
摘要：	用作磁头的GMR读取头，在其紧邻自由磁层的侧边缘组装了硬质偏压层，这样硬质偏压层的中平面和自由磁层的中平面近似于共面。硬质偏压层的定位通过沉积一层厚厚的硬质偏压种子来实现，接着再经过离子铣来清除侧壁沉积的种子层。其后，硬质偏压层就沉积到厚厚的种子层之上。另一种方案是，首先沉积一部分硬质偏压种子层，再经过离子铣来清除侧壁沉积。接着再沉积第二部分薄的种子层，最后沉积硬质偏压层。