公开号：	US2007065580A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	透明薄膜的形成方法,根据该方法形成的透明薄膜及具有透明薄膜的透明基体
摘要：	本发明提供一种使用原料气体根据化学气相沉积法形成透明薄膜的方法，其特征在于：成膜速度为8nm/s以上，该透明薄膜含有选自碳(C)和氧(O)中的至少一种、氮(N)、氢(H)及硅(Si)。根据该方法，可在浮槽内的玻璃带上形成薄膜中的张力被缓和而不易从基体剥离，并且在可见光区的透过率高的透明薄膜。