公开号：	US2007074662A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	用于在目标物上沉积含碳膜的等离子体处理装置
摘要：	本发明公开了一种等离子体处理装置，用来制造含碳氢化合物等离子体的气体，并形成用于在目标物上涂覆的含碳薄膜。该装置包括：第一反应室，在待沉积的物体上进行第一等离子体过程；第二反应室，在进行第一等离子体过程之后排出的气体上进行第二等离子体过程，且结束后利用排气泵将废气排到外面。第一反应室通过第二反应室连接在排气泵上。