公开号：	US2007077357A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	用于无机层的源和用于控制其加热源的方法
摘要：	本发明公开用于无机层的沉积源和用于控制其热源的方法，通过使为达到稳定的沉积速率所需的时间最少，能够提高沉积效率、防止喷嘴的凝结，和/或精确地控制温度。该沉积源包括：具有用于施加热量到该坩埚的加热源的加热单元，用于隔绝从加热单元发出的热量的壳体；用于固定坩埚的外壁；和用于喷射从坩埚中蒸发的沉积材料的喷嘴单元。该加热单元包括第一单元和第二单元。该坩埚置于第一单元和第二单元之间，并且该加热单元包括用于向第一单元供电的第一电源和用于向第二单元供电的第二电源。