公开号：	US2007084404A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	通过化学钝化作用使反应器表面钝化
摘要：	本发明提供在原子层沉积（ALD）或化学气相沉积(CVD)反应器的表面形成保护层的方法。界定为ALD或CVD反应器的反应区部分能经过化学试剂的原位或异位处理使反应区表面的反应位点失活。预处理步骤能在处理步骤前最大化地利用反应位点。随着反应位点被吸附的处理试剂失活，在后续的步骤中反应气体减少了处理过的表面的反应活性或沉积。因此，净化步骤大大缩短，在清洗步骤之间能进行更多的操作来去除反应壁上已形成的沉积。