公开号：	US2007087455A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	等离子体反应器中离子密度，离子能量分布和离子解离的独立控制
摘要：	一种在等离子体反应器中处理工件的方法，包括将来自具有三个各自频率的至少三个RF功率源的RF功率耦合到反应器中的等离子体；通过选择至少三个RF功率源中的第一对的功率级之间的比率而设置离子能量分布形态；并且通过选择至少三个RF功率源中的第二对的功率级之间的比率而设置离子解离和离子密度。所述三个各自频率可以是LF频率、HF频率或VHF频率，其中所述第一对与LF频率和HF频率相对应而第二对与HF频率和VHF频率相对应。另外，所述功率源包含四个RF功率源，其中第一对与HF频率和LF频率相对应而第二对与VHF频率和另一频率相对应。