公开号：	US2007128880A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	形成氧化膜的工艺，设备及电子器件材料
摘要：	一个氧化成膜装置，包括：在预定的位置处理电子基板设备的反应室，水蒸汽供应意味提供水气入反应室，等离子体激发，意味活化水气成等离子体，因此，电子器件基板的表面可以在水蒸气等离子体基础上被照射。