| 摘要： | 在一个用于在基片上生长外延层的转盘式反应器或其它CVD反应器系统中，在离圆盘旋转轴不同径向距离的气体进口处流向基片的气体在各个进口具有基本相同的气体流量/速度和基本相同的气体密度。流向远离轴的圆盘部分的气体比流向靠近轴的圆盘部分的气体包含更高浓度的反应气，使得离轴不同距离的基片表面部分在每单位面积上所接收的反应气的量基本相同，利用在离旋转轴不同径向距离处具有不同相对分子量的载气的组合，可使反应器各区域内的气体密度基本相等。在应用该系统时，可以在多个气体进口处组合载气，可以在多个进口处组合载气和反应气，可以使用任意多种气体，前提是至少使用两种不同分子量的气体。在反应器内达到了所需的线性流动式样，避免了层流再循环区域，同时能够在基片上均匀地沉积和生长外延膜。 |