公开号：	US2007134821A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	用于先进前段工艺的群集设备
摘要：	本发明方面大体来说提供一种使用多腔室工艺系统来处理基材的设备及方法，其适用于处理基材并分析在基材上执行的工艺结果。在本发明一方面中，使用一或多个分析步骤及/或预清洁步骤来降低等候时间对组件产率的影响。在本发明一方面中，使用一系统控制器及一或多个分析腔室来监视及控制一处理腔室配方及/或工艺顺序，以减少因为已完成组件上有缺陷而造成基材报废以及组件效能差异性等问题。本发明实施例大体上也提供数种可重复且可靠地形成用于各种应用中的半导体组件的方法和系统。