公开号：	US2007137571A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	沉积装置
摘要：	沉积设备包括：真空室；掩膜装置，包括用于在真空室内的基底上沉积材料的掩膜和支撑掩膜的掩膜框架；磁铁单元，包括第一磁铁单元通过磁力的作用，使掩膜装置和基底接触（或者是黏结，卡住和托住），第二磁铁单元，与掩膜框架对应，确保掩膜与基底接触更紧密。