公开号：	US2007204797A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	用于选择性预涂等离子处理室的方法和装置
摘要：	公开一种用于选择性预涂包含室壁的等离子处理室的装置。该装置包含第一RF电极组，该第一RF电极组配置为激发第一预涂等离子，该第一RF电极组限定第一等离子室区域。该装置还包含围绕该第一RF电极组设置的第一限制环组；以及设置在该第一限制环组和该室壁之间的第二限制环组。该装置进一步包含气体传输系统，该系统配置为当传输第一预涂气体且施加能量于该第一RF电极时将第一预涂层应用至该第一等离子区域。该装置还包含该气体传输系统，该系统配置为当传输第二预涂气体且施加能量于该第二RF电极组时将第二预涂层应用至该第二等离子区域。